到现在为止随着印制电路板向高疏密程度、高精密度方向进展，对硫酸盐镀铜工艺提出了更加严明的要求，务必同时扼制好镀铜工艺过程中的各种因素，能力取得高质量的镀层。下边针对镀铜工艺过程中显露出来氯离子耗费过大的现象，剖析氯离子耗费过大的端由。
    显露出来氯离子耗费过大的前因：
    镀铜时线路板板面的低电流区显露出来“无光泽”现象，氯配方液体浓度偏低；普通经过添加盐酸后，板面低电流疏密程度区的镀层“无光泽”现象能力消逝，镀液中的氯离子液体浓度能力达到正常范围，板面镀层洁净。假如要经过添加数量多盐酸来解决低电流疏密程度区镀层“无光泽”现象，就不尽然是氯离子液体浓度太低而导致的，需剖析其真正的端由。假如采取添加数量多盐酸：一来，有可能会萌生其他后果，二来增加生产资本，有弊于公司竞争。电解整流器脉冲电解电源准确剖析“低电流疏密程度区镀层无光泽”端由：
    经过添加数量多的盐酸来消弭“低电流疏密程度区镀层不洁净”现象，解释明白如是氯离子过少，才需添加盐酸来增加氯离子的液体浓度达到正常范围，使低电流疏密程度区镀层洁净。假如要添加成倍的盐酸能力使氯离子的液体浓度达到正常范围？是啥子在耗费数量多的氯离子呢？氯离子液体浓度太高会使洁净剂耗费快。解释明白氯离子与洁净剂会萌生反响，超过限量的氯离子会耗费；反过来，超过限量的洁净剂也耗费氯离子。由于氯离子过少和洁净剂超过限量都是导致低电流疏密程度区镀层不洁净“的主要端由，因为这个可见，导致”镀铜中氯离子耗费过大的主要端由是洁净剂液体浓度太高。